涂胶显影设备龙头芯源微：28nm 产品检验加快国产代替（上）

　　公司发家于中科院沈阳自动化所，产品掩盖半导体专用的光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备，产品累计销量超越 1500台。

　　沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立于 2002 年，是由中科院沈阳自动化研究所建议创立的国家高新技能企业，公司首要从事半导体专用设备的研制、出产和出售，产品包含光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），可用于 8/12 英寸单晶圆处理（如集成电路制作前道晶圆加工及后道先进封装环节）及 6 英寸及以下单晶圆处理（如化合物、MEMS、LED 芯片制作等环节）。

　　到 2022 年 7 月 25 日，公司出产的应用于各范畴的涂胶显影设备和单片式湿法设备已累计出售 1500 余台。

　　2005 年，公司自主研制出产的 8 英寸先进封装范畴用涂胶设备产品成功出售至江阴长电先进封装有限公司，拓荒了 8 英寸先进封装凸点（Bumping）工艺国产化新范畴。

　　2007 年，公司自主研制出产的 12 英寸先进封装涂胶/显影设备产品成功出售至江阴长电先进封装有限公司。

　　2008 年，公司承当的国家“十一五”国家科技严重专项《极大规划集成电路制作配备及成套工艺》“凸点封装涂胶显影、单片湿法刻蚀设备的研制与工业化”项目取得立项批复，公司成功打破凸点封装工艺相关的超厚光刻胶膜的涂覆、显影、单片湿法多工艺药液同腔分层刻蚀等多项中心关键技能。

　　2011 年，公司捉住国内 LED 工业快速开展的机会，推出 LED 芯片制作范畴用涂胶/显影机等半导体专用设备，产品批量出售至三安光电、华灿光电等国内一线 年，公司承当的国家“十二五”国家科技严重专项《极大规划集成电路制作配备及成套工艺》“300mm 晶圆匀胶显影设备研制”项目取得立项批复，项目履行期内公司成功打破集成电路前道晶圆加工范畴光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷、精细化显影、精细温控热处理等多项中心关键技能。

　　2013 年，公司自主研制的先进封装范畴用喷雾式涂胶设备成功打入我国台湾商场，批量出售至台积电子公司台湾精材。

　　2016 年，公司出产的先进封装范畴用涂胶/显影设备批量出售至台积电；公司掌管拟定的职业标准《喷雾式涂覆设备通用标准》（SJ/T11576-2016）正式颁布实施。

　　公司自主研制的首台国产高产能前道涂胶设备“奉天一号”出厂并在上海华力进行设备工艺验证，正式进军商场空间愈加宽广的集成电路制作前道晶圆加工环节用涂胶显影设备范畴。

　　2019 年，公司自主研制的集成电路制作前道晶圆加工环节用单片式清洗设备出厂并在中芯世界深圳厂进行工艺验证。

　　2020 年，公司出产的前道 Spin Scrubber 物理清洗机设备在中芯世界、上海华力、厦门士兰集科等多个客户处经过工艺验证，并取得国内多家 Fab 厂商的批量重复订单。

　　2022 年，公司首台浸没式高产能涂胶显影机可掩盖国内 28nm 及以上一切工艺节点的出产线对 TRACK 的要求，能协作各种干流光刻机量产，即在 28nm 及以上节点的光刻涂胶显影工艺上可完结全面国产代替，现在在客户端已完结检验。

　　公司首要产品为涂胶显影设备及单片清洗设备，首要应用于前道涂胶显影和清洗环节、后道先进封装范畴及化合物、MEMS、LED 等小尺度范畴。公司主营事务收入来源于半导体专用设备产品的出售，其他事务收入来源于设备相关配件出售及修理。

　　公司出产的前道涂胶显影设备最高可应用于 28nm 工艺节点，成功完结国产代替。在光刻机联机方面，公司出产的前道涂胶显影设备可完结和多种干流光刻机联机运转，比方 ASML、Cannon、Nikon 等。到 2022 年上半年，公司 offline、I-line、KrF 机台均完结了批量出售，且新签订单规划继续大幅添加。

　　设备已连续取得了中芯京城、上海华力、长江存储、合肥长鑫、武汉新芯、士兰集科、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、中芯绍兴、中芯宁波、昆明京东方等多个前道大客户订单。

　　现在已把握前道物理清洗机 28nm 工艺节点的中心技能，化学清洗机正在研制中。公司出产的集成电路前道晶圆加工范畴用物理清洗机 Spin Scrubber 设备，已把握前道物理清洗机 28nm 工艺节点的中心技能，包含内部微环境操控、晶圆双面颗粒清洗、高速夹持旋转主轴、药液流量操控、二流体低损害清洗等关键技能。现在现已到达世界先进水平并成功完结国产代替，公司连续取得了中芯世界、上海华力、青岛芯恩、武汉新芯、北京燕东等多个前道大客户的批量重复订单，国内商场占有率稳步提高。

　　公司出产的后道涂胶显影设备和单片式湿法设备部分技能已领先于世界知名企业。公司将前道设备先进的规划理念及技能移植到后道产品上，完结降维冲击，部分技能已领先于世界知名企业，可满意更高工艺等级及产能需求。现在作为干流机型已批量应用于台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、中芯绍兴、中芯宁波等国内一线大厂，成为客户端的主力量产设备。公司连续取得多家封装厂商的批量重复订单，未来将加大力度继续开辟我国台湾以及海外商场。

　　经过学习前道产品先进的规划理念，成功开发了新式化合物涂胶显影机、多腔体去胶机、多腔体刻蚀机等高功能设备。现在作为干流机型已批量应用于三安集成、中芯宁波、中电科集团、士兰明镓、华灿光电、江西兆驰、东莞中图、乾照光电、北京赛微等国内一线大厂。

　　公司作为国内化合物龙头三安集成的主力供货商，在商场开辟中不断延伸，不断提高公司的优势位置。

　　协商决议 公司现在无控股股东及实践操控人，严重决议方案均由股东大会和董事会协商决议。

　　到 2023 年 1 月 3 日，公司的大股东别离为沈阳先进、沈阳中科天盛（中科院沈阳自动化研究所）、辽宁科发实业、国科出资、周冰冰、宗润福（公司董事长、CEO）、青岛城投、李风莉（公司副总裁、董事会秘书）等，持股别离为

　　公司单个股东独自或算计持有的股份数量均未超越公司总股本的 30%，单个股东均无法决议董事会大都座位，公司无控股股东及实践操控人。

　　公司运营方针及严重事项的决议方案均由股东大会和董事会依照公司议事规则评论后确认。

　　公司在上海树立了全资子公司，除在沈阳浑南建有飞云路、彩云路两个厂区外，还在上海临港新建有飞渡路厂区，在日本京都设有海外研制中心，并在姑苏、昆山、武汉、我国台湾等地设有办事处，掩盖长三角、珠三角及我国台湾地区等工业要点区域，树立了快速呼应的出售和技能服务团队。

　　公司中心技能人员具有丰厚的经历，对职业的开展趋势和竞赛格式有深化的了解。依据公司公告，公司活跃引进了一批具有丰厚的半导体设备职业经历的高端人才，形成了安稳的中心技能人才团队，公司中心技能人员共 7 人，别离为宗润福、陈兴隆、王绍勇、张怀东、程虎、赵乃霞、张军，能严密盯梢世界先进技能开展趋势，具有较强的继续立异才能。在人才培育方面，公司与相关高校树立协作培育机制，定向培育契合公司研制和出产需求的人才后备力量。

　　公司高度重视研制，到 22H1 末研制人员占比 35%以上，两次股权鼓舞掩盖算计 139 人次。

　　到 2022 年 6 月 30 日，公司共有研制人员 253 人，同比添加 52.4%，公司总人数约 720 人，研制人员占比 35.29%，其间硕博士在研制人员中占比约为 47.04%。

　　在人才鼓舞方面，公司 2022 年上半年研制人员均匀薪酬为 12.36 万元/人，同比提高 40.78%，此外，公司先后推出了 2020、2021 年两期约束性股票鼓舞方案，掩盖鼓舞方针算计 139 人次，被鼓舞职工均为公司管理层及中心事务主干，股票鼓舞方案清晰了公司成绩考核方针，有助于调会集心职工的活跃性和主动性。

　　公司经营收入快速添加首要原因是半导体职业景气量继续向好，一起公司产品竞赛力不断增强，新签订单同比大幅添加。2021 年公司完结营收 8.29 亿元，同比+151.95%，2018-2021 年 CAGR 约 58%。2022Q1-Q3 公司完结营收 8.97 亿元，同比+63.87%，公司 2022 年前三季度营收现已超越2021年全年，连续高增速。公司估计2022年收入13~14.2亿元，同比添加56.88% 到 71.36%。

　　2021 年光刻工序涂胶显影设备、单片式湿法设备、其它设备（湿法刻蚀机等）、其他事务（来源于设备相关配件出售及修理服务等）营收别离为 5.06 /2.90/0.18/0.15 亿元，别离完结增速114.41%/281.58%/200.00%/36.36%，其间公司的首要事务——光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备在 2018-2021 年营收 CAGR 别离为 57.71%/59.11%，为公司营收添加带来微弱动力。

　　公司客户会集度占比全体呈下降趋势。2018-2021 年前五名客户算计出售额别离为 1.20/0.97/1.79/3.66 亿元，占年度出售总额别离为57.07%/45.61%/54.32%/44.20%，首要原因是下流半导体制作厂商的会集度较高。公司的大客户进行会集收购且设备收购单价较高，因而前五大客户出售额占比较高，未来跟着新客户的逐渐开辟，预期客户会集度或进一步下降。

　　公司单季度营收全体坚持添加趋势，但因检验周期等影响也出现必定的季节性动摇。公司产品首要会集在泛半导体职业，受下流半导体制作职业客户本钱性支出动摇及客户检验周期等要素的影响，公司主营事务收入出现必定的季节性特征，每年二、四季度产品出售金额及占比较高。

　　2019-2021 年，公司二季度和四季度主营事务收入占当期收入的比例别离为 81.70%/51.96%/62.63%。公司上述收入季节性动摇特征与同职业季节性动摇趋势较为挨近，收入的季节性动摇会导致公司各季度成绩、现金流状况发生相应动摇。

　　经营本钱快速添加的首要原因是经营收入添加，2022 年前三季度，公司凭仗一系列办法提高出产功率，经营本钱的高速添加趋势出现放缓，带动盈余才能提高。

　　2021 年公司光刻工序涂胶显影设备、单片式湿法设备、其它设备、其他事务的本钱别离为 3.14/1.87/0.08/0.04 亿元，本钱占比别离为 61.21%/36.45%/1.56%/0.78%。半导体设备事务本钱占大部分，其间光刻工序涂胶显影设备的本钱费用占比较高。

　　半导体设备归于高精细的自动化配备，研制和出产均需运用很多的高精度元器件，对产品机械结构的精度和原料要求也很高。历年前五名供货商收购占比出现下降趋势，现在在 30%以下。

　　公司继续对前道涂胶显影机的中心零部件进行自主或国产化联合研制，在多种中心零部件研制上取得了打破性开展，现已成功完结了多种中心零部件的国产代替。中心零部件的国产代替有用保证了公司的供应链安全，一起也下降了物料本钱并缩短了供货周期。

　　2018-2022H1，随事务规划的扩展，公司毛利率安稳在 40%左右，净利率安稳在 14%左右。

　　公司毛利率下降的首要原因是前道涂胶显影产品占比逐渐提高，由于前道涂胶显影设备正在商场开辟阶段，毛利率没有安稳；且 2021 年供应链存在严重的状况，原资料本钱有所动摇。咱们预期跟着公司前道涂胶显影设备的产品标准化定型和未来大批量出产带来的规划效应，以及零部件国产代替的不断推动，未来公司毛利率水平将得到修正并安稳提高。

　　2022Q1-Q3 公司净利润 1.43 亿元，同比+169.42%，净利率添加到 15.95%，盈余才能同比大幅添加的首要原因是公司出售收入添加，出货量添加分摊出产本钱，一起本钱操控行之有效。

　　公司 2022 年前三季度的期间费用率要高于国内可比的半导体设备公司的均匀水平，首要原因是公司的营收规划相较于可比公司还比较低，还处于快速生长阶段。

　　2022H1 公司研制投入为 0.43 亿元，同比-13.59%，研制投入占比为 8.47%，同比-5.61pcts，下降首要是由于受研制阶段性动摇影响，部分研制项目处于规划阶段，研制资料收购领用存在滞后效应。

　　与国内可比公司比照，公司研制投入低于国内可比公司中微公司、盛美上海、拓荆科技和北方华创等，首要原因是公司收入体量小，因而研制投入金额少，且 2022 年上半年公司新品多处于规划阶段，研制资料投入相对较低，因而研制费用率相对较低。

　　咱们预期跟着下半年公司新品的规划完结，拼装样机需求的资料投入将加大，研制费用率有望回到职业均匀水平。

　　到 2022H1 公司共有 253 名研制人员，在一切职工中占比 35.29%，研制人员数量和比例低于国内可比公司的均匀值，咱们以为首要是由于公司相较于可比公司还处于前期开展阶段，人员数量还在继续扩展中。

　　商场分析：公司掩盖全球商场规划近 90 亿美元，商场简直被美日厂商独占

　　公司首要为下流集成电路、LED 芯片等半导体产品制作企业供给光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备等产品。

　　公司首要从事半导体专用设备的研制、出产和出售，产品包含光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），可用于 8/12 英寸单晶圆处理（如集成电路制作前道晶圆加工及后道先进封装环节）及 6 英寸及以下单晶圆处理（如化合物、MEMS、LED 芯片制作等环节）。

　　半导体设备商场规划遭到供需失衡与技能革新影响呈周期性上升趋势，依据 SEMI 数据，2021 年全球商场规划初次超越千亿美元，到达 1026 亿美元，同比+44.1%；SEMI 估计 2022 年到达 1085 亿美元，同比+5.9%。

　　晶圆制作设备从类别上可分为刻蚀、薄膜堆积、光刻、检测、离子掺杂等十多类，依据 Gartner 猜测，2022 年全球晶圆制作设备商场中，公司主营的涂胶显影及单片清洗设备占比别离为 3.8%/4.1%，归纳 SEMI 和 Gartner 数据，咱们猜测 2022 年全球半导体涂胶显影及清洗设备商场规划别离约为 44.9/41.0 亿美元，算计商场规划为 86 亿美元。

　　国内商场，VLSI 估计 2023 年前/后道涂胶显影和单片清洗设备商场规划别离为 10.26 /0.81/8.26 亿美元，国内商场规划算计 19.33 亿美元。

　　1）我国大区（含我国台湾地区，下同）后道涂胶显影设备出售额现已由 2016 年的 0.45 亿美元添加到 2018 年的 0.61 亿美元，VLSI 估计 2023 年将到达 0.81 亿美元。2）我国大区前道涂胶显影设备出售额由2016年的8.57亿美元添加到2018年的8.96亿美元，估计2023年将到达10.26 亿美元；我国大区前道单片式清洗设备出售额现已由 2016 年的 6.14 亿美元添加至 2018 年的 7.54 亿美元，估计在 2023 年将到达 8.26 亿美元。现在，我国半导体设备职业商场比例仍首要由国外知名企业占有，且凭仗较强的技能、品牌优势，海外企业在高端商场占有领先位置。

　　全球商场看，90%左右的涂胶显影设备被东京电子占有，芯源微全球占比缺乏 1%。

　　在光刻工序涂胶显影设备范畴，除公司外，首要企业还有日本东京电子（TEL）、日本迪恩 士（DNS）、德国苏斯微（SUSS）、我国台湾亿力鑫（ELS）、韩国细美事（SEMES）等。

　　依据 Gartner 的猜测数据，2021 年全球集成电路制作前道晶圆加工范畴用涂胶显影设备市 场规划为 25.8 亿美元，2022 年估计将到达 28 亿美元。

　　依据 VLSI Research 数据，2019 年全球集成电路制作前道晶圆加工范畴用涂胶显影设备商场首要被日本 TEL 所独占，占比超越 91%，芯源微占比约为 0.7%；2020 年 TEL 的全球商场占比约 87%。

　　国内商场，东京电子占比超 80%，国产前道涂胶显影设备中仅芯源微入围，公司市占率约 12%。

　　咱们从我国世界投标网汇总了 2016-2022 年国内部分晶圆厂（长江存储、上海华力、华虹无锡等）的投标收购数据，发现芯源微的涂胶显影设备在华力集成、中芯绍兴、上海积塔、青岛芯恩等晶圆厂取得批量投标收购，产品包含聚合物涂胶显影机、反面涂胶显影机、KrF 匀胶显影机、I-line 匀胶显影机等。

　　这些国内部分晶圆厂五年来共收购 202 台设备，其间东京电子取得收购 163 台，占比 80.7%。中标的国产设备厂商包含芯源微和盛美上海，现在国内厂商中，芯源微为少量具有高端 in-line 设备的量产制作才能，近五年取得收购 25 台设备，在国内商场占比约 12%；盛美上海的中标设备为 1 台涂胶机和 1 台显影机，均为 off-line 设备。

　　咱们估计未来跟着下流厂商对国产化设备的需求提高，一起公司不断推出针对更先进制程的高端设备，完结国外设备的国产化代替，在国内商场占比将加快提高。

　　现在，全球半导体清洗设备首要日本、美国、韩国等国外企业独占，日本迪恩士（DNS）处于领先位置，其次是日本东京电子（TEL）、美国泛林半导体（Lam Research）等，此外韩国三星、海力士各安闲本乡扶持了细美事（SEMES）和 MUJIN 清洗设备厂商。

　　依据 Gartner 核算，2020 年全球半导体清洗设备商场中，国外厂商迪恩士/东京电子/SEMES/泛林半导体的商场占有率别离为 45.1%/25.3%/14.8%/12.5%，日韩美四家公司算计商场占有率到达 97.7%，全球商场被国外公司独占，国内厂商占比较低。

　　跟着国产设备厂商的技能提高叠加我国大陆半导体建厂潮，我国大陆的产品也成功进入国内龙头半导体出产企业的供应链中。

　　咱们从我国世界投标网汇总了 2016-2022 年我国大陆的首要晶圆厂（长江存储、华虹无锡、晶合集成、上海华力、燕东微、晋华集成等）的清洗设备投标状况，依照设备台数核算，我国大陆商场的半导体清洗设备收购数量算计 638 台，其间我国大陆厂商的设备数量为 208 台，国产化率约 32.6%。

　　国内厂商中，盛美上海、芯源微、北方华创和至纯科技的半导体清洗设备占比别离为 49.0%/13.9%/13.0%/6.7%。

　　现在国内能供给半导体清洗设备的企业首要包含盛美上海、至纯科技、芯源微和北方华创，算计的清洗设备中标数量别离为 102/29/27/14 台，在国产机台中占比别离为 49.0%/13.9%/13.0%/6.7%。

　　前期公司产品的出货量相对较低，首要由于公司的清洗产品为单片式物理清洗设备，首要用于 28nm 以上工艺节点的集成电路制作及后道先进封装范畴。

　　依据公司承受财联社采访发表的信息，现在单片清洗设备商场中化学清洗占干流，商场占比超 80%，物理清洗占比缺乏 20%；但是在物理清洗设备范畴，公司的 Spin Scrubber 设备出售数量大于国内其他厂家出售台数之和，现在已成为国内各大晶圆厂 Baseline 首选产品。

　　与此一起，公司正在研制单片式化学清洗关键技能，进一步优化单元和整机规划，产品应用场景扩展至 28nm 及以下的先进制程，依据公司公告，公司预期化学清洗设备有望于 2023 年推向商场，公司清洗设备比例有望进一步提高。

　　据彭博社 2023 年 1 月 27 日报导，美国政府与荷兰和日本在华盛顿谈判达成协议，拟约束向我国出口一些先进的芯片制作设备，该协议没有官宣，荷兰、日本政府仍需敲定各自的终究法令组织，实践执行方案或许需求数月时刻。

　　荷兰 ASML、日本尼康和佳能是全球光刻机范畴首要玩家，日本还具有东京电子等重要设备企业。

　　芯源微在涂胶显影设备范畴首要代替日本东京电子（TEL，全球占九成比例），在清洗机范畴首要代替日本迪恩士（DNS，全球占 45%比例）和日本东京电子（TEL，全球占 25%比例）。

　　若未来日本政府对华约束组织落地，咱们以为在涂胶显影和清洗机范畴的国产化必要性将显着加大。

　　我国过往出台了一系列鼓舞和支撑半导体配备工业开展的方针，为半导体配备工业的开展营建了杰出的方针环境，例如近年来我国相继推出了《我国制作 2025》、《国家科技严重专项“十三五”开展规划》、《国家集成电路工业开展推动大纲》等文件，2020 年 8 月国务院发布《新时期促进集成电路工业和软件工业高质量开展若干方针》，给予了八方面详细方针办法。近年来工业外部开展环境复杂多变，2022 年美国、日本、欧洲、韩国等地均相继推出本乡半导体工业扶持方针，一起美国加大了对华半导体出口控制，国内工业开展面对应战，咱们以为未来加大关于本乡半导体工业的支撑具有必要性。